Isotropic plasma-thermal atomic layer etching of superconducting titanium nitride films using sequential exposures of molecular oxygen and SF6/H2 plasma

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标题	Isotropic plasma-thermal atomic layer etching of superconducting titanium nitride films using sequential exposures of molecular oxygen and SF6/H2 plasma
网址	https://pure.tue.nl/ws/files/312358133/062601_1_6.0002965.pd...
DOI	10.1116/6.0002965 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Azmain A. Hossain; Haozhe Wang; David S. Catherall; M. S. Leung; Harm C. M. Knoops; et al 出版日期：2023-09-26
求助人	ysq 在 2026-09-14 10:48:57 发布自上海，悬赏 10 积分
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