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 Tuning Material Properties of Oxides and Nitrides by Substrate Biasing during Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition on Planar and 3D Substrate Topographies 在平面和三维衬底形貌上等离子体增强原子层沉积过程中通过衬底偏压调节氧化物和氮化物的材料性质
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Tahsin Faraz; Harm C. M. Knoops; Marcel A. Verheijen; Cristian A. A. van Helvoirt; Saurabh Karwal; et al 出版日期：2018-03-20 |
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