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 Gas-phase etching mechanism of silicon oxide by a mixture of hydrogen fluoride and ammonium fluoride: A density functional theory study 相关领域
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Romel Hidayat; Khabib Khumaini; Hye-Lee Kim; Tanzia Chowdhury; Tirta Rona Mayangsari; et al 出版日期：2023-04-26 |
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