Growth of Bismuth Oxide by Atomic Layer Deposition: An Attempt to Achieve a Stoichiometric Composition and a High Growth Rate

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标题	Growth of Bismuth Oxide by Atomic Layer Deposition: An Attempt to Achieve a Stoichiometric Composition and a High Growth Rate 通过原子层沉积生长氧化铋：实现化学计量组成和高生长速率的尝试相关领域化学计量学铋原子层沉积作文（语言）沉积（地质）图层（电子）氧化物化学工程材料科学化学无机化学矿物学纳米技术冶金物理化学地质学工程类哲学古生物学语言学沉积物
网址	https://doi.org/10.1021/acs.cgd.4c01213
DOI	10.1021/acs.cgd.4c01213 doi
其它	期刊：Crystal Growth & Design 作者：Yu Tanaka; Hiroshi Sakama 出版日期：2025-01-29
求助人	xiaopang 在 2025-12-23 10:17:59 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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