Line-type tall via structures for CFET: superior scalability and manufacturability through gate extension reduction

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标题	Line-type tall via structures for CFET: superior scalability and manufacturability through gate extension reduction
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6641/ae2d8c
DOI	10.1088/1361-6641/ae2d8c doi
其它	期刊：Semiconductor Science and Technology 作者：Jimyoung Lee; Seung Kyu Kim; Kyuman Hwang; KwangYoung Lee; Jongwook Jeon 出版日期：2025-12-17
求助人	shendu1214 在 2026-06-01 20:23:07 发布自江苏，悬赏 10 积分
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Society for Industrial and Applied Mathematics (SIAM)

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