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 Retention Analysis of Ferroelectric FETs with Gate-Side Injection for Vertical NAND Storage 用于垂直NAND存储的栅侧注入铁电场效应晶体管的保持分析
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期刊：2022 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS) 作者：Yixin Qin; Saikat Chakraborty; Zijian Zhao; Shawming Ma; Moonyoung Jung; et al 出版日期：2025-03-30 |
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