Etching characteristics of TiN used as hard mask in dielectric etch process

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标题	Etching characteristics of TiN used as hard mask in dielectric etch process 介质刻蚀工艺中TiN用作硬掩模的刻蚀特性相关领域锡蚀刻（微加工）材料科学电介质过程（计算）光电子学工程物理计算机科学纳米技术冶金工程类操作系统图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1116/1.2338048 AI链接 hal.sciencedoi.org
DOI	10.1116/1.2338048 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Maxime Darnon; T. Chevolleau; David Eon; Olivier Joubert 出版日期：2006-09-01
求助人	jcs666 在 2025-12-01 21:13:23 发布自陕西，悬赏 10 积分
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