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 Etching characteristics of TiN used as hard mask in dielectric etch process 介质刻蚀工艺中TiN用作硬掩模的刻蚀特性
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Maxime Darnon; T. Chevolleau; David Eon; Olivier Joubert 出版日期：2006-09-01 |
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