Diffusion-reaction modeling of atomic layer etching

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标题	Diffusion-reaction modeling of atomic layer etching
网址	https://doi.org/10.1116/6.0005041
DOI	10.1116/6.0005041 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Jaehong Kwon; Joseph R. Vella; David B. Graves 出版日期：2026
求助人	zZzZ 在 2026-04-09 15:59:03 发布自上海，悬赏 10 积分
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