Smoothed boundary method modified phase-field modeling of growth dynamics of thin films on the surface of the planar substrate and the etch pit during physical vapor deposition

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标题	Smoothed boundary method modified phase-field modeling of growth dynamics of thin films on the surface of the planar substrate and the etch pit during physical vapor deposition
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S092702562...
DOI	10.1016/j.commatsci.2025.114034 doi
其它	期刊：Computational Materials Science 作者：Xinlei Du; Hui Xing; Hanxu Jing; Yapeng Zheng; Jianyuan Wang 出版日期：2025-06-12
求助人	麦克尔在 2026-07-31 14:28:31 发布自广东，悬赏 10 积分
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