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标题
Impacts of HF etching on ultra-thin core gate oxide integrity in dual gate oxide CMOS technology
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx5/8537/26991/01200921.pdf?...
DOI
10.1109/ppid.2003.1200921 doi
其它 期刊：2003 8th International Symposium Plasma- and Process-Induced Damage.
作者：Da-Yuan Lee; Horng-Chih Lin; Chia-Lin Chen; Tiao-Yuan Huang; Tahui Wang; et al
出版日期：2003-10-31
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泉er 在 2026-08-31 14:54:35 发布，悬赏 10 积分
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