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标题
Optimization of defect detection sensitivity and cost of ownership reduction in nano imprint lithography through design for inspection and advanced optical inspection
通过检测设计和高级光学检测优化纳米压印光刻中的缺陷检测灵敏度并降低拥有成本
相关领域
平版印刷术 灵敏度(控制系统) 纳米- 还原(数学) 降低成本 材料科学 光刻 纳米技术 计算机科学 可靠性工程 工程类 光电子学 电子工程 复合材料 业务 几何学 数学 营销
网址
DOI
10.1117/12.3051318 doi
其它 期刊:
作者:Gilad Reut; Oded Ovdat; Orli Grinstein‐Cohen; Shay Yasharzade; Liran Zacs; et al
出版日期:2025-02-21
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zzydada 在 2025-05-30 03:07:59 发布自安徽,悬赏 20 积分
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