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Improvement of Polishing Performance of Sio2/Si3n4 by Surfactants in Ceo2 Based Slurry
表面活性剂对Ceo2基浆料中Sio2/Si3n4抛光性能的改善
相关领域
抛光 泥浆 化学机械平面化 材料科学 冶金 复合材料
网址
https://doi.org/10.2139/ssrn.5268908
DOI
10.2139/ssrn.5268908 doi
其它 期刊：
作者：Xinyu Zhao; Xinyu Han; Fangyuan Wang; Baimei Tan; Yunhui Shi; et al
出版日期：2025-01-01
求助人
感动的听荷 在 2025-09-24 09:20:51 发布自吉林，悬赏 10 积分
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