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标题
First Demonstration of Annealing-Free Atomic-Layer-Deposited In2O3 Top-Gate Devices With Robust Positive/Negative Bias Temperature Instability
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx8/16/11415321/11322812.pdf...
DOI
10.1109/ted.2025.3648690 doi
其它 期刊：IEEE Transactions on Electron Devices
作者：Li-Cheng Teng; Y. Liao; C. Tian; Chien-Chun Chen; Yu-Hsien Lin; et al
出版日期：2026-03-01
求助人
醉熏的井 在 2026-08-07 21:13:52 发布自湖北，悬赏 10 积分
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