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标题
Chemical absorption and interaction mechanisms of β-silicon carbide in chemical mechanical polishing under minimum water quantity lubrication
最小水量润滑下β-碳化硅在化学机械抛光中的化学吸收和相互作用机理
相关领域
润滑 化学机械平面化 抛光 碳化硅 吸附 材料科学 碳化物 摩擦学 化学工程 冶金 复合材料 化学 有机化学 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.triboint.2025.110899
DOI
10.1016/j.triboint.2025.110899 doi
其它 期刊：Tribology International
作者：Tan-Tai Do; Te‐Hua Fang
出版日期：2025-06-13
求助人
Roy 在 2025-12-15 17:38:33 发布自福建，悬赏 10 积分
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