Plasma-Tailored Intrinsic Defect Engineering for BiFeO3 Homojunctions: A Non-element Intrusive Doping Strategy

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标题	Plasma-Tailored Intrinsic Defect Engineering for BiFeO3 Homojunctions: A Non-element Intrusive Doping Strategy
网址	https://doi.org/10.1021/acs.jpclett.5c03140
DOI	10.1021/acs.jpclett.5c03140 doi
其它	期刊：The Journal of Physical Chemistry Letters 作者：Jia Zhao; Mengdi Sun; Jingjing Zhao; Jialin Shao; Huiya Liu; et al 出版日期：2025
求助人	养乐多在 2026-03-05 16:07:50 发布自江苏，悬赏 10 积分
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