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 Growth Temperature Dependence of TiO2 Thin Films Prepared by Using Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Method 等离子体增强原子层沉积法制备TiO2薄膜的生长温度依赖性
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期刊：Journal of the Korean Physical Society 作者：G. X. Liu; F. K. Shan; W. J. Lee; Byoungchul Shin 出版日期：2007-06-15 |
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