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Low-temperature surface nitrogen doping and plasma-enhanced atomic layer deposition of β -Ga 2 O 3 using an N 2 ( C 3 Π u )—rich rf nitrogen plasma |
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:S. Ata; T. Yoshimura; T. Nagata; M. Kobata; T. Fukuda; et al 出版日期:2026-09-15 |
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(2025-6-4)