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A molecular dynamics study of deposition rate dependence of film morphology in the sputtering process
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DOI
10.1016/s0257-8972(01)01445-1 doi
其它 期刊:Surface & Coatings Technology
作者:Shin‐Pon Ju; Cheng‐I Weng; Jee‐Gong Chang; Chi‐Chuan Hwang
出版日期:2002-01-01
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Atlantis 在 2026-11-10 13:59:28 发布自美国,悬赏 10 积分
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