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 Adsorption mechanism of hexachlorodisilane for low-temperature atomic layer deposition of silicon nitride 六氯二硅对氮化硅低温原子层沉积的吸附机理
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期刊：Surfaces and Interfaces 作者：Jiwon Kim; Bonggeun Shong 出版日期：2025-04-01 |
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