| 标题 |
 Evaluation of high-numerical-aperture wide-field steppers for 0.35-micron design rules 相关领域
十字线
步进电机
平版印刷术
计算机科学
覆盖
光学接近校正
光刻
极紫外光刻
光掩模
直线（几何图形）
抵抗
材料科学
纳米技术
光电子学
薄脆饼
程序设计语言
几何学
图层（电子）
数学
|
| 网址 | |
| DOI |
10.1117/12.130363
doi
|
| 其它 |
期刊：Advanced Lithography 作者：B. Katz; J. Greeneich; Richard Rogoff; S. Slonaker; S. Wittekoek; et al 出版日期：1992-06-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
无极微光
健壮的书桃
OK
Copyright
cdercder
GingerF
斯文钢笔
Nole
sagitar
arniu2008
1111111111
学术文献互助
Zephyrite
Criminology34
初景
天穹雨
奋斗易真
lizishu
雪满头
皖公网安备34019202002308
