1X nm half-pitch pattern transfer using a spin-on glass and amorphous carbon hard mask for nanoimprint lithography

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标题	1X nm half-pitch pattern transfer using a spin-on glass and amorphous carbon hard mask for nanoimprint lithography
网址	http://dx.doi.org/10.35848/1347-4065/ae38ec
DOI	10.35848/1347-4065/ae38ec doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Kenta Suzuki; Ryosuke Hamamoto; Yuji Kasashima; Tetsuya Ueda; Wataru Mizubayashi; et al 出版日期：2026-01-29
求助人	火火在 2026-06-30 10:28:44 发布自江西，悬赏 10 积分
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