Atmospheric pressure metal-organic chemical vapor deposition (AP-MOCVD) growth of undoped and aluminium-doped ZnO thin film using hot wall reactor - 科研通

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标题	Atmospheric pressure metal-organic chemical vapor deposition (AP-MOCVD) growth of undoped and aluminium-doped ZnO thin film using hot wall reactor
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfin.2020.100883
DOI	10.1016/j.surfin.2020.100883 doi
其它	期刊：Surfaces and Interfaces 作者：Abdelkader Nebatti Ech Chergui; Christian Pflitsch; Burak Atakan 出版日期：2021
求助人	llll 在 2026-05-21 21:23:30 发布自湖北，悬赏 10 积分
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