| 标题 |
  High-efficiency EUV mask defect compensation method based on the pixelated absorber layer correction 相关领域
极紫外光刻
平版印刷术
光学
补偿（心理学）
数值孔径
电子束光刻
材料科学
下一代光刻
抵抗
极端紫外线
X射线光刻
航空影像
浸没式光刻
反射器（摄影）
光掩模
计算机科学
光刻
光学接近校正
光电子学
GSM演进的增强数据速率
图层（电子）
严格耦合波分析
光圈（计算机存储器）
无光罩微影
邻近效应（电子束光刻）
计算光刻
计量学
全息显示器
基质（水族馆）
光强度
全息术
梁（结构）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Optics Express 作者：Hanzhi Zhang; Sikun Li; Xiaowei Song; Jingquan Lin 出版日期：2025-10-31 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
6666
囧囧
cdercder
Criminology34
Nole
GingerF
渡人舟
馨馨的科科
无奈的梦凡
核桃
Zsq
AGLONG
无极微光
糊涂小子0629
初景
东方元语
千珏
奔跑
Freya1528
温暖的蜗牛
皖公网安备34019202002308
