Influence of dislocation clusters on homoepitaxial layers grown by halide vapor phase epitaxy (001) β-Ga2O3 investigated by synchrotron x-ray topography and scanning transmission electron microscopy

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标题	Influence of dislocation clusters on homoepitaxial layers grown by halide vapor phase epitaxy (001) β-Ga2O3 investigated by synchrotron x-ray topography and scanning transmission electron microscopy
网址	http://dx.doi.org/10.1063/5.0327068
DOI	10.1063/5.0327068 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Sayleap Sdoeung; Kohei Sasaki; Chia-Hung Lin; Mohan Rajesh; Tomoka Nishikawa; et al 出版日期：2026-05-04
求助人	xjz240221 在 2026-07-22 12:30:20 发布自广东，悬赏 10 积分
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