| 标题 |
Metal oxide resist formulation and process advancements towards high-NA EUV lithography |
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10.1117/12.3051549
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期刊:Advances in Patterning Materials and Processes XLII 作者:Amrit K. Narasimhan; Alexander C. Marwitz; Kanta Yanagi; Peter De Schepper; Dylan Vu; et al 出版日期:2025-04-23 |
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(2025-6-4)