Inverse lithography physics-informed deep neural level set for mask optimization

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标题	Inverse lithography physics-informed deep neural level set for mask optimization
网址	https://opg.optica.org/viewmedia.cfm?URI=ao-62-33-8769&seq=0
DOI	10.1364/ao.503332 doi
其它	期刊：Applied Optics 作者：Xing-Yu Ma; Shaogang Hao 出版日期：2023-10-31
求助人	能力越小责任越小在 2026-02-02 02:26:07 发布自安徽，悬赏 10 积分
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