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Plasma etching of high aspect ratio features in SiO2 using Ar/C4F8/O2 mixtures: A computational investigation |
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期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Shuo Huang; Chad M. Huard; Seung‐Bo Shim; Sang Ki Nam; In-Cheol Song; et al 出版日期:2019-04-17 |
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