Process optimization of contact hole patterns via a simulated annealing algorithm in extreme ultraviolet lithography

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标题	Process optimization of contact hole patterns via a simulated annealing algorithm in extreme ultraviolet lithography
网址	https://doi.org/10.1364/ao.479619
DOI	10.1364/ao.479619 doi
其它	期刊：Applied Optics 作者：Rongbo Zhao; Yayi Wei; Hong Xu; Xiangming He 出版日期：2023-01-03
求助人	李露露在 2026-09-23 14:48:09 发布自上海，悬赏 10 积分
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