Immersion Lithography: Photomask and Wafer-Level Materials

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标题	Immersion Lithography: Photomask and Wafer-Level Materials 浸没式光刻：光掩模和晶圆级材料相关领域光掩模浸没式光刻材料科学平版印刷术沉浸式（数学）薄脆饼光刻下一代光刻抵抗纳米技术光学数值孔径无光罩微影 X射线光刻折射率光电子学电子束光刻波长物理数学图层（电子）纯数学
网址	https://doi.org/10.1146/annurev-matsci-082908-145350
DOI	10.1146/annurev-matsci-082908-145350 doi
其它	期刊：Annual Review of Materials Research 作者：Roger H. French; Hoang V. Tran 出版日期：2009-07-06
求助人	子暮在 2025-09-03 19:26:35 发布自福建，悬赏 10 积分
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