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 Dry plasma etching of GaAs vias using BCl 3 /Ar and Cl 2 /Ar plasmas 相关领域
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期刊：SPIE Proceedings 作者：Yuwen Chen; Boon Siew Ooi; Geok I. Ng; Chee L. Tan; Yuen Chuen Chan 出版日期：2003-11-20 |
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