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 Mechanical wear behavior between CeO2(100), CeO2(110), CeO2(111), and silicon studied through atomic force microscopy 用原子力显微镜研究CeO2（100）、CeO2（110）、CeO2（111）与硅的机械磨损行为
相关领域
粘着磨损
材料科学
化学机械平面化
氧化铈
硅
扫描电子显微镜
原子力显微镜
铈
摩擦学
抛光
复合材料
氧化物
纳米技术
冶金
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期刊：Tribology International 作者：Lile Xie; Jie Cheng; Tongqing Wang; Xinchun Lu 出版日期：2020-08-31 |
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