Analysis of Very High Energy Implantation Profiles at Channeling and Non-Channeling Conditions

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标题	Analysis of Very High Energy Implantation Profiles at Channeling and Non-Channeling Conditions
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/8794648/8807892/08807946...
DOI	10.1109/iit.2018.8807946 doi
其它	期刊：2018 22nd International Conference on Ion Implantation Technology (IIT) 作者：Serguei I. Kondratenko; Leonard M. Rubin; Eric A. G. Webster 出版日期：2019-08-23
求助人	不卷心菜在 2026-09-13 21:05:49 发布自湖北，悬赏 10 积分
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