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 A snapshot review on metal–semiconductor contact exploration for 7-nm CMOS technology and beyond 7纳米CMOS技术及其他技术的金属-半导体接触探索综述
相关领域
材料科学
CMOS芯片
快照（计算机存储）
半导体
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工程物理
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期刊：MRS Advances 作者：Hao Yu; Marc Schaekers; Jean-Luc Everaert; Naoto Horiguchi; K. De Meyer; et al 出版日期：2022-11-21 |
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