| 标题 |
 Role of fluorocarbon film formation in the etching of silicon, silicon dioxide, silicon nitride, and amorphous hydrogenated silicon carbide 氟碳膜形成在硅、二氧化硅、氮化硅和非晶氢化碳化硅蚀刻中的作用
相关领域
氟碳化合物
材料科学
蚀刻（微加工）
基质（水族馆）
二氧化硅
碳化硅
硅
氮化硅
等离子体刻蚀
无定形固体
薄膜
化学工程
分析化学（期刊）
光电子学
复合材料
纳米技术
化学
图层（电子）
有机化学
工程类
海洋学
地质学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：T. E. F. M. Standaert; Christer Hedlund; Eric Joseph; G. S. Oehrlein; T. Dalton 出版日期：2003-11-25 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
DW
cdercder
无极微光
Nole
学术文献互助
然宝
秋风
aaaa
didiwang
xing_xing
sagitar
我能私信骂你吗
v0id
Kao
狂野紫丝
水煮电吹风
2052669099
维尼
昏睡的蟠桃
凶狠的八宝粥
皖公网安备34019202002308
