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Cycloalkyl Ligand-Engineered Zirconium–Oxo Clusters for Sub-9 nm Electron Beam Lithography with Ultralow Line Edge Roughness |
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期刊:Journal of the American Chemical Society 作者:Min Zhang; Wenzheng Li; Zihan Lian; Zijian Chen; Daohan Wang; et al 出版日期:2026-06-18 |
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(2025-6-4)