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 Facile fabrication of high-resolution extreme ultraviolet interference lithography grating masks using footing strategy during electron beam writing 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena 作者：Li Wang; Daniel Fan; Vitaliy A. Guzenko; Yasin Ekinci 出版日期：2013-11-01 |
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