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Evaluation of 1T-DRAM Based on Novel Triple-Gate Nanosheet RFET With Surrounded SiGe Channel
基于具有环绕SiGe沟道的新型三栅极纳米片RFET的1T-DRAM的评估
相关领域
德拉姆 纳米片 材料科学 频道（广播） 光电子学 电子工程 逻辑门 电气工程 工程类 纳米技术
网址
https://doi.org/10.1109/ted.2025.3549398
DOI
10.1109/ted.2025.3549398 doi
其它 期刊：IEEE Transactions on Electron Devices
作者：Xinyu Zou; Fuxing Gong; Mengge Jin; Han Jiang; Xiaojin Li; et al
出版日期：2025-01-01
求助人
华hgger 在 2025-06-22 11:44:21 发布自安徽，悬赏 10 积分
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