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标题
ALD and PVD Tantalum Nitride Barrier Resistivity and Their Significance in via Resistance Trends
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网址
https://doi.org/10.1149/ma2014-02/30/1611
DOI
10.1149/ma2014-02/30/1611 doi
其它 期刊：ECS Meeting Abstracts
作者：O. van der Straten; X. Zhang; K. Motoyama; C. Penny; J. Maniscalco; et al
出版日期：2014-08-05
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jingjing 在 2026-01-13 15:40:09 发布自安徽，悬赏 10 积分
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