Measuring local CD uniformity in EUV vias with scatterometry and machine learning

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标题	Measuring local CD uniformity in EUV vias with scatterometry and machine learning 相关领域临界尺寸极紫外光刻计量学平版印刷术电子束光刻材料科学光学抵抗光学接近校正光学（聚焦）光刻维数（图论）邻近效应（电子束光刻）计算机科学光电子学物理纳米技术图层（电子）数学纯数学
网址	https://doi.org/10.1117/12.2551498
DOI	10.1117/12.2551498 doi
其它	期刊：作者：Dexin Kong; Daniel Schmidt; Jennifer Church; Chi‐Chun Liu; Mary Breton; et al 出版日期：2020-03-24
求助人	btb 在 2026-01-21 18:06:23 发布自湖北，悬赏 20 积分
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