| 标题 |
Attenuated phase shift mask for extreme ultraviolet: can they mitigate three-dimensional mask effects? |
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| DOI |
10.1117/1.jmm.18.1.011005
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期刊:Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS 作者: 出版日期:2018-08-11 |
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