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标题
Laser‐Assisted Thermal Exposure Lithography: Arbitrary Feature Sizes
相关领域
特征（语言学） 激光器 材料科学 平版印刷术 光学 热的 纵横比（航空） 光刻 光电子学 物理 气象学 哲学 语言学
网址
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/adem.2020014...
DOI
10.1002/adem.202001468 doi
其它 期刊：Advanced Engineering Materials
作者：Zhengwei Wang; Jinlun Zheng; Guodong Chen; Kui Zhang; Tao Wei; et al
出版日期：2021-03-03
求助人
标致的小天鹅 在 2026-07-16 09:38:02 发布自中国，悬赏 10 积分
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