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Decrease in Particles by Substituting Conductive Magnesium-Oxide Based Ceramics for Conventional Electrode Materials Used in Process Chamber of Plasma Etching
通过用导电氧化镁基陶瓷代替等离子体蚀刻处理室中使用的常规电极材料来减少颗粒
相关领域
材料科学 陶瓷 电极 镁 蚀刻（微加工） 腐蚀 氧化物 等离子体 陶瓷电容器 冶金 铝 产量（工程） 复合材料 电容器 化学 电气工程 电压 物理 物理化学 图层（电子） 量子力学 工程类
网址
https://doi.org/10.1109/tsm.2021.3071446
DOI
10.1109/tsm.2021.3071446 doi
其它 期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
作者：Yuji Kasashima; Takashi IKEDA; Tatsuo Tabaru
出版日期：2021-04-07
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坚定的鼠标 在 2025-08-15 19:01:04 发布，悬赏 10 积分
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