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 Decrease in Particles by Substituting Conductive Magnesium-Oxide Based Ceramics for Conventional Electrode Materials Used in Process Chamber of Plasma Etching 通过用导电氧化镁基陶瓷代替等离子体蚀刻处理室中使用的常规电极材料来减少颗粒
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期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 作者：Yuji Kasashima; Takashi IKEDA; Tatsuo Tabaru 出版日期：2021-04-07 |
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