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![]() 用于高性能FeFET存储器和人工突触的增强极化CMOS兼容ScAlN铁电薄膜
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期刊:Small methods 作者:Bingqian Xu; Yao Cai; Zekai Wang; Qinwen Xu; Yuqi Ren; et al 出版日期:2025-06-19 |
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