Study of Wafer Arcing Defects on PECVD Low Deposition Rate TEOS Oxide Thin Film

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标题	Study of Wafer Arcing Defects on PECVD Low Deposition Rate TEOS Oxide Thin Film 相关领域等离子体增强化学气相沉积薄脆饼材料科学薄膜正硅酸乙酯电弧沉积（地质）弧（几何）氧化物光电子学等离子体化学气相沉积纳米技术分析化学（期刊）化学工程化学冶金有机化学物理化学电极机械工程工程类生物沉积物量子力学古生物学物理
网址	http://dx.doi.org/10.1109/asmc61125.2024.10545370
DOI	10.1109/asmc61125.2024.10545370 doi
其它	期刊：作者：Minrui Wang; Irene Low; Y. B. Lee; Joseph M. Schmitt 出版日期：2024-05-13
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