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 Formation and stability of ammonium fluorosilicate during etching of SiN x in CH2F2/Ar and SF6/H2 plasmas CH2F2/Ar和SF6/H2等离子体刻蚀SiN x过程中氟硅酸铵的形成和稳定性
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Xue Wang; Prabhat Kumar 出版日期：2025-12-01 |
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