Microkinetic based growth and property modeling of plasma enhanced atomic layer deposition silicon nitride thin film

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标题	Microkinetic based growth and property modeling of plasma enhanced atomic layer deposition silicon nitride thin film
网址	https://doi.org/10.1116/6.0002499
DOI	10.1116/6.0002499 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Toshihiko Iwao; Tsung-Hsuan Yang; Gyeong S. Hwang; Peter L. G. Ventzek 出版日期：2023-05-01
求助人	hustliuxiao 在 2026-07-09 11:54:07 发布自湖北，悬赏 10 积分
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