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 Novel High-Tolerance Termination With Resistive Field Plate for 600 V Super-Junction Vertical Double-Diffused MOSFET 600 V超结垂直双扩散MOSFET新型高容差电阻场板终端
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期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Ruidi Wang; Ming Qiao; Yibing Wang; Zhaoji Li; Bo Zhang 出版日期：2022-06-06 |
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(2025-6-4)
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