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 The transport and surface reactivity of O atoms during the atmospheric plasma etching of hydrogenated amorphous carbon films 氢化非晶碳膜大气等离子体刻蚀过程中O原子的输运和表面反应性
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期刊：Plasma Sources Science and Technology 作者：Mohamed Mokhtar Hefny; David Nečas; Lenka Zajı́čková; Jan Benedikt 出版日期：2019-01-30 |
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