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标题
The influence of Cu Diffusion on NMOS Device Characteristics
相关领域
NMOS逻辑 材料科学 扩散 光电子学 电气工程 热力学 晶体管 物理 工程类 电压
网址
https://doi.org/10.3938/jkps.40.692
DOI
10.3938/jkps.40.692 doi
其它 期刊：Journal of the Korean Physical Society
作者：Jung Mu-Kyeung; Liu Seong-Ho; Ahn Jong-Hyon; Kyungtae Lee; Kang Hee‐Sung; et al
出版日期：2002-04-01
求助人
西子 在 2025-10-17 16:24:54 发布自青海，悬赏 10 积分
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