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 Crystallization kinetics of TiO2 thin films: A comparative study of film deposition conditions 相关领域
结晶
材料科学
高功率脉冲磁控溅射
锐钛矿
溅射沉积
薄膜
无定形固体
化学工程
分析化学（期刊）
溅射
沉积（地质）
金红石
物理气相沉积
分压
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退火（玻璃）
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脉冲激光沉积
矿物学
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期刊：Thin Solid Films 作者：Daniel Félix Fernandes; Jaime J. Hernández; S.-R. Kim; Alberto Martín–Asensio; Patricia Pedraz; et al 出版日期：2026-01-17 |
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